紫外光與可見光相比，其特點是1）波長短，能量高；2）穿透力較可見光弱，易被檔案材料吸收；3）極容易引起物質(zhì)間高能態(tài)變化和能量的傳遞，導致一系列光化學反應的發(fā)生。
檔案材料最為敏感的是波長為253.7nm的紫外光，這種光波對檔案材料的破壞最為嚴重。

二、光對檔案制成材料的危害機理

（一）光化學反應(photochemical reaction)的一般特點
1.光化學反應是激發(fā)態(tài)分子的反應
一般物質(zhì)分子處于最低能態(tài)稱基態(tài)，物質(zhì)吸收光能后，分子必然由最低能量態(tài)躍遷到高能量態(tài)，也就是不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài)，這種不穩(wěn)定的能態(tài)需要通過多種理化過程來消耗積累的能量，破壞材料的穩(wěn)定性，因此光化學反應是物質(zhì)分子激發(fā)態(tài)間的反應。

2. 物質(zhì)對光的吸收具有選擇性
物質(zhì)對光的吸收服從光化學第一定律：只有被物質(zhì)吸收的光才能有效引起光化學反應，反應能否發(fā)生取決于照射光的波長與被照射物質(zhì)分子變化的能量級差，只有分子變化的級差與一定波長的光的能量相當時，物質(zhì)才能吸收光能，引發(fā)光化學反應。這是物質(zhì)對光的選擇性特點。
E==E2－E1==h c/λ

3.光的波長越短，其光化學效應越大
常用的檔案制成材料大多有C、H、O、N等元素組成的有機化合物，這些元素間的鍵能大多在紫外線與部分可見光的能量范圍內(nèi)，當材料吸收并積累了與鍵能相當?shù)墓饽軙r，就有可能造成某些化學鍵的斷裂。故防光主要是防紫外光。

4.光化學反應具有光敏性
檔案制成材料上某些物質(zhì)如：鹽基染料、木質(zhì)素、填料、金屬離子對光比較敏感，能量較小的可見光也能使其由基態(tài)躍為激發(fā)態(tài)，這些物質(zhì)稱為光敏劑。由于光敏作用(photoactivation )，光敏劑可以把激發(fā)能轉(zhuǎn)給基態(tài)氧使之成為激態(tài)氧，由基態(tài)氧與檔案制成材料發(fā)生光氧化反應，并生成過氧化物；

光敏劑也可以把能量轉(zhuǎn)給檔案制成材料分子，自身生成游離基，并再與基態(tài)氧生成過氧自由基，過氧自由基再與制成材料發(fā)生反應。由于光敏劑的作用，能使物質(zhì)對光的敏感范圍向長波長方向擴展，進而引起光化學反應，因而可見光也能致害檔案材料。

5.光化學反應具有后效性
光化學反應都伴隨著游離基的鏈式反應，反應一旦啟動，即使材料不再受光的直接輻射，反應在暗處仍會繼續(xù)進行，直至激發(fā)能耗盡。

相關問題：
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